Epson, llevó a cabo su cuarto evento anual Epson Digital Couture Project previo a la Semana de la Moda de Nueva York, en esa misma ciudad. Diseñadores de América Latina y Norteamérica aprovecharon las avanzadas soluciones de impresión textil de Epson para crear pequeñas colecciones con base en la temática “Alta Costura Cosmopolita con Colores Imposibles ¿Cómo se viste tu cultura?” y demostrar qué puede hacer la tecnología por la moda.
“El futuro de la moda es la personalización –desde los colores y los estampados hasta el tamaño y la forma de las piezas– todo a pedido”, comentó Keith Kratzberg, Presidente y Director Ejecutivo de Epson América. “La tecnología de imagen digital de Epson está cambiando el negocio de la moda al brindar una plataforma que permite a los diseñadores imprimir diseños más exclusivos y de calidad superior, según las necesidades de los clientes y dentro de los plazos requeridos. Nuestro evento Digital Couture muestra cómo el potencial de diseño y el impacto sobre la industria de la moda sobrepasan todos los límites”.
Previo al show, Epson realizó un panel de Moda y Tecnología que invitó a reflexionar sobre cómo la tecnología digital está evolucionando la industria textil, así como las tendencias del mercado y el papel que aquélla tiene en el mundo de la alta costura. Anthony Cenname, Vicepresidente y Editor de Wall Street Journal Magazine moderó el panel, que inició con el discurso de Kratzberg, mientras que los comentarios finales estuvieron a cargo de Agustín Chacón, Vicepresidente de Mercadotecnia de Epson América. Los participantes del panel incluyeron al diseñador de interiores Ryan Korban; Mark Sunderland de la Universidad Thomas Jefferson; Aliza Licht, representante de Mercadotecnia y Comunicaciones EVP para Alice + Olivia y autora de “LEAVE YOUR MARK”, y Anna Fusoni, reconocida analista y crítica de la industria de la moda.
Para llevar a cabo la iniciativa Digital Couture Project, cada diseñador o equipo de diseño buscó contar una historia con su colección a través de textiles creados con la tecnología de sublimación de tinta de Epson, la cual ofrece ilimitadas posibilidades de creación y el resultado final fueron estampados originales de la más alta calidad, exclusivos de cada autor, en telas que transmiten su propio estilo.
La cuarta edición del Epson Digital Couture Project mostró las creaciones de los siguientes diseñadores:
- Brasil – Lua Luá (Michele Gevaerd).
- Canadá (Toronto) – Hayley Elsaesser.
- Chile – Karyn Coo.
- Ecuador – Stephanie Ruiz.
- Guatemala – Eduardo Figueroa.
- México – Emilio Mata.
- Paraguay – Ilse Jara.
- Perú – Ana María Guiulfo.
- Colombia – Lina Cantillo.
- Estados Unidos (Los Ángeles) – Candice Cuoco.
- Estados Unidos (Miami) – Fernando Alberto.
- Estados Unidos (Filadelfia) – Thomas Jefferson University (Alexandra Pizzigoni y Patricia Franklin).
- Estados Unidos (Nueva York) – threeASFOUR (Gabriel Asfour, Angela Donhauser y Adi Gil).
México: https://epson.com.mx/epson-new-york-fashion-week-2018
